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PlasmaPro 100 ALE

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更新時(shí)間：2022-11-30 12:43:01瀏覽次數(shù)：210評價(jià)

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產(chǎn)品簡介

As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices there is a need for ever more precise process control to create and manipulate these layers. The PlasmaPro 100 ALE delivers this through specialised hardware including:All these combine to enable etching with accuracy at the atomic scale.

詳細(xì)介紹

我們的設(shè)備和工藝已通過充分驗(yàn)證，正常運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間可達(dá)90%以上，一旦設(shè)備安裝完畢，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市場應(yīng)用廣，包括但不限于： MEMS和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。

PlasmaPro 100 ALE 的特點(diǎn):

準(zhǔn)確的刻蝕深度控制；
光滑的刻蝕表面
低損傷工藝
數(shù)字化/循環(huán)式刻蝕工藝——刻蝕相當(dāng)于ALD
高選擇比
能加工200mm的晶圓
高深寬比（HAR）刻蝕工藝
非常適于刻蝕納米級薄層

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