12月2日，美國商務部工業和安全局（BIS）更新了《出口管理條例》（EAR），將140個中國半導體行業相關實體納入“實體清單”，限制中國在人工智能和先進半導體領域的發展。這是美國近三年來第三次對中國半導體行業實施限制措施。
被列入“實體清單”的企業，將面臨無法采購美國生產的電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）的困境。而ICP-MS在半導體產業的多個核心環節中扮演著至關重要的角色，它廣泛應用于材料檢測、制程控制、性能測試、質量控制和研發支持等方面，是保障半導體產品質量的關鍵設備。
半導體器件的制造過程中對污染源的管理極為嚴格，特別是對晶圓、電子濕化學品、電子特氣及靶材等核心原材料中的無機元素雜質含量需進行精密控制。因為即使是非常微量的雜質，也可能導致介質擊穿電壓降低，進而影響成品器件的電氣性能，造成器件缺陷。為確保生產材料中的金屬污染物濃度嚴格符合限制要求，在半導體器件的生產過程中，必須全程使用ICP-MS技術對無機元素雜質進行精確分析。
萊伯泰科是最早以半導體行業為導向研發生產ICP-MS的國產儀器企業之一。2021年5月，萊伯泰科隆重發布LabMS 3000單四極桿ICP-MS，劍指半導體行業，并于次年在國內半導體頭部企業成功通過驗證，引發了業界的廣泛關注和熱烈討論。2023年3月，萊伯泰科再次發力，推出了LabMS 5000串聯四極桿ICP-MS/MS，進一步提升了分析精度，降低了檢出限，并在國內率先通過了SEMI S2認證，以更加卓越的性能深層次進軍半導體行業。
萊伯泰科宣布進軍半導體行業的時候，外界普遍持懷疑態度，認為這是一個很難成功的事情。因為半導體行業樣品中的雜質元素含量通常處于ppt及亞ppt級別，使用ICP-MS分析時，等離子產生的氬離子以及待測樣品基質均會帶來嚴重的質譜干擾，影響測試精度及準確度。萊伯泰科持續攻堅，成功攻克了冷等離子技術與串聯四極桿技術，并進一步優化了儀器的空白背景及可靠性，從而滿足了半導體行業對樣品中痕量元素分析的高標準需求，以及集成電路制造企業在安全規范與長期穩定運行方面的嚴苛要求。正是這份堅持與執著，萊伯泰科陸續成功推出LabMS 3000和LabMS 5000，在半導體行業國產替代的道路上穩步前行。從最初的質疑到如今的認可，萊伯泰科用實際行動詮釋了“難，并不意味著不可能”。
如今，萊伯泰科自主研發的ICP-MS已成功進入我國多家芯片、光伏和面板頭部生產企業，產品被廣泛應用于硅材料、電子濕化學品、光刻膠、高純PFA、CMP拋光液以及化合物半導體等多個半導體生產環節，為客戶提供了精準、高效的解決方案。這些成績的取得，不僅是對其技術實力的最好證明，更是對國產替代戰略的積極響應和實踐。即使面對外部限制，也能保持穩定發展。
萊伯泰科ICP-MS已進入的半導體行業應用領域
萊伯泰科憑借深厚的技術積累與產品優勢，精心為半導體行業量身定制了《萊伯泰科半導體行業檢測綜合解決方案》。該方案不僅涵蓋了先進的ICP-MS技術，還融入了廣受行業好評的無機元素樣品前處理技術及超凈實驗室建設工程服務。
這場科技冷戰的序幕已經拉開，未來的走向充滿了不確定性。面對這樣的挑戰，科學儀器行業也將面臨重大挑戰，國產儀器的自主發展變得尤為重要。在外部環境的壓力下，行業需要加大力度進行自主研發和技術創新，加快實現國產化替代，以增強自身的國際競爭力。
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