C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要用途

 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。

C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要性能指標(biāo)

1、有三種版夾盤(pán)供選擇，能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版（2.5"×2.5"），版的厚度無(wú)特殊要求1.5~3mm皆可。分別用于φ4、φ3、φ2基片的曝光。基片厚度0.1~1mm都可以。

2、曝光

(1)光源采用GCQ350型超高壓球形汞燈。

(2)照明范圍：≤φ110mm

(3)光的不均勻性：φ100mm范圍內(nèi)≤±4%

(4)可使用的波長(zhǎng)：G線(xiàn)、H線(xiàn)、I線(xiàn)的組合。（即3500~5000埃）

(5)成像面照明：使用UV—A型表測(cè)量，光照度≤15毫瓦/厘米2左右（采用3650測(cè)頭測(cè)量），光學(xué)結(jié)構(gòu)原理為16面反射式多點(diǎn)光源。

3、采用進(jìn)口時(shí)間繼電器（該繼電器可從0.1秒~999.9秒內(nèi)任意設(shè)定）控制“真空快門(mén)"。動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。

4、該機(jī)為雙面接觸式曝光機(jī)，該機(jī)特制的翻版機(jī)構(gòu)，能消除基片楔形誤差，保證上下二塊掩膜版對(duì)基片上下兩面良好的接觸，從而保證基片上下兩面的曝光質(zhì)量。

5、分辨率估量：如果用戶(hù)的“版"、“片"精度符合國(guó)家規(guī)定、環(huán)境、溫度、濕度以及房間凈化得到嚴(yán)格控制，采用進(jìn)口“正性"光刻膠，且勻膠厚度和均勻度也得到嚴(yán)格控制的話(huà)，本機(jī)曝光最小分辨可達(dá)0.002mm，建議使用在≥0.003mm以上。

6、對(duì)準(zhǔn)：

    A、 兩個(gè)單視場(chǎng)變倍顯微鏡加二個(gè)CCD攝像機(jī)加14"顯示器。

    1）二個(gè)單視場(chǎng)變倍顯微鏡的變倍范圍0.7X~4.5X.

    2）二個(gè)CCD攝像頭：平面對(duì)角線(xiàn)尺為1/3"。

    3）采用19"液晶顯示器，總放大倍數(shù)為0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。

    B、對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

   首先真空吸附下掩版（注意掩版四個(gè)邊，平行于真空吸下掩版的裝置四個(gè)邊），然后將上掩版放在下掩版上，轉(zhuǎn)動(dòng)曝光頭位置，使兩個(gè)單視場(chǎng)顯微鏡對(duì)準(zhǔn)上掩版，調(diào)好左右兩個(gè)顯微鏡的焦距，從監(jiān)視屏上看清兩個(gè)像。調(diào)整下掩版X、Y和Q轉(zhuǎn)動(dòng)，使上掩版上的圖像或標(biāo)記線(xiàn)，顯視到顯示器屏的左右分開(kāi)的中間位置，然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后，再也不能移動(dòng)。通過(guò)下掩版進(jìn)行X、Y和Q移動(dòng)后，實(shí)現(xiàn)上下掩版的對(duì)準(zhǔn)工作。

 上下掩版的對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.001mm。

 該機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是，有一個(gè)上掩版相對(duì)于下掩版的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)翻轉(zhuǎn)角度≥90o，甚至可達(dá)180o，不僅便于上下基片，而且能保證上下掩版對(duì)應(yīng)基片上下面的良好接觸。（能補(bǔ)償基片的楔形誤差），又能保證上下掩版對(duì)準(zhǔn)了的圖形重合到原來(lái)位置，其誤差≤5μm。

 這一點(diǎn)很重要，也就是說(shuō)上下掩版對(duì)準(zhǔn)后，不管怎么翻動(dòng)，怎樣上下基片，上下掩版的圖形仍然是對(duì)準(zhǔn)的！這對(duì)大批量生產(chǎn)的廠(chǎng)家來(lái)說(shuō)很重要，只要上下掩版對(duì)準(zhǔn)后，你就可以不斷地對(duì)基片進(jìn)行雙面曝光，曝若干片以后，你如果想觀(guān)察上下掩版是否仍然對(duì)準(zhǔn)的，你只要轉(zhuǎn)動(dòng)曝光頭，使顯微鏡對(duì)準(zhǔn)版，你就能在顯示器上看見(jiàn)，兩個(gè)版的對(duì)準(zhǔn)情況。

X、Y調(diào)整范圍±4mm

Q轉(zhuǎn)角≤±5o

7、設(shè)備所需能源：

主機(jī)電源220V   50HZ   功耗≤1.5KW

配有一臺(tái)真空泵，真空泵電源220V

8、尺寸和重量：

尺寸：700（長(zhǎng)）×700（寬）×960（高）

重量≤100kg

機(jī)體放在專(zhuān)用工作臺(tái)上

工作臺(tái)  750（長(zhǎng)）×720（寬）×640（高）  高度可調(diào)范圍0~30mm

重量70kg (工作臺(tái)后側(cè)裝有電氣部分)

總重量≤170kg

9、雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的組成

    A、 主機(jī)

    1）主機(jī)（含機(jī)體和工作臺(tái)）

  2）機(jī)體上安裝二臺(tái)單視場(chǎng)可變倍數(shù)顯微鏡，二臺(tái)CCD攝像頭，一臺(tái)19"顯示器，一套很有特色的上下翻版裝置，二個(gè)16面反射鏡式多點(diǎn)光源曝光頭。

    B、 附件：（用戶(hù)提出后，可配以下附件）

    1）3"上下掩版吸版裝置

    2）3"上下翻板裝置

    3）一個(gè)350瓦高壓球形汞燈

    4）真空泵一臺(tái)

    5）?8（外徑）高壓用塑料管15m（用于真空管）一根