AP-1000等離子清洗系統

一、功能簡介：

在微電子加工過程中，特別是在芯片貼裝和絲線鍵合的過程中，需要對表面輕微有機污染或氧化物進行清洗，在這種場合下，需要用等離子清洗的方法進行清洗。美國MARCH 公司的等離子清洗設備在以下器件的制造過程中能起到很好地清洗作用：光電器件、微波器件、混合電路、MEMS器件、RF模塊、功率器件、傳感器、半導體器件、LED、分立元器件、納米器件、聲表器件。

特征優勢：

觸摸屏的PLC控制，提供了形象的圖形界面和實時過程顯示；

靈活的支架結構允許處理多種部分，在水平或豎直模式下；

13.56MHz的電源具有自動阻抗匹配功能，因此具有出色的過程重復性；

專li的控制軟件系統為統計過程控制產生過程和產品的數據；

March AP-1000等離子清洗系統，是專門設計適應24小時生產的嚴格要求的情況。此系統提供統一的等離子體，具有優良的可靠性、安全性及操作簡單等優點。

AP-1000平臺是*獨立的，因此要求小的層空間。泵、處理腔體、電子控制和13.56MHz電源供應都被安裝在一個單一的外殼內。前面開門使得存取組件都很便利。泵安裝在便于拆卸的滾筒上。

帶有HTP （高吞吐量）架選項的AP-1000等離子系統結合了可靠性和生產品質，證明March 專li的HTP架的優勢。AP-1000 HTP優化在RF激勵源產生的離子的應用，使在減少過程時間的時候，提高處理的*性。

AP-1000 HTP允許選擇一系列工藝氣體，例如氬氣、氫氣和氦氣等。它裝備4個質量流量控制器以達到jia的工藝氣體控制。

帶有槽的M/G制具垂直安裝在處理腔體中。出色的是，每塊M/G制具可小支撐20個框架。處理腔體多可裝12個M/G制具，這有M/G制具的尺寸決定。