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  • 焊錫設備原理

    根據日本工業(yè)標準分類,軟釬焊是“釬焊”的一種。焊接是一種液相鍵合方法,其中焊料在低于其熔點的溫度下熔化并連接到固體基材上。釬焊涉及釬焊,釬焊與釬焊的區(qū)別在于所使用的填充金屬(釬焊金屬、焊料)的熔點溫度。熔點溫度高于450℃為釬焊,熔點溫度低于450℃為軟釬焊。在焊接設備的原理中,“潤濕”和“毛細作用”很重要。1.濕“潤濕”是指熔化的焊料是否與金屬混合。通過加熱變成熔融金屬的焊料材料滲透并擴散到基材的間隙中。當熔化的焊料滴到金屬上時,焊料由于自身的表面張力而變圓,變圓的焊料的切線與金屬之間的角度就
  • 什么是焊錫設備及應用

    焊接設備是使用焊料將金屬粘合在一起的設備。焊料是一種熔點低于其所粘合的基材的金屬。當焊料被加熱到熔融狀態(tài),然后在不熔化母材金屬的溫度下倒入母材之間的間隙并冷卻時,在接頭處形成合金層,從而形成接頭。焊料原本是錫和鉛的合金,但近年來使用不含鉛的無鉛焊料已變得普遍。由于鉛對人體有害,因此含鉛焊料屬于歐盟RoHs指令中“限制在電氣和電子設備中使用鉛等特定有害物質”的范圍。焊接設備有多種類型,包括烙鐵焊、波峰焊、回流焊等。有引線型電子元件采用流焊法,無引線型電子元件采用回流焊法。焊錫設備的應用1、烙鐵焊接
  • 焊接機器人的類型

    焊接機器人包括桌面機器人、SCARA機器人和笛卡爾機器人。此外,它們還按焊接方法分類。典型的焊接方法是烙鐵法和激光法。即使在今天,鏝刀法仍然被廣泛使用。1.抹刀法烙鐵法是將烙鐵加熱到近350℃,從烙鐵jianduan倒出焊錫來接合金屬的方法。與涂膏狀焊料然后加熱熔化接合的回流焊方法相比,其特點是不直接向電子元件施加熱量。這樣可以實現高質量焊接并減少熱損傷。2、激光法在激光方法中,使用激光熔化焊料。這種方法利用了這樣一個事實:通過使用透鏡或鏡子將激光聚集成高密度光束,可以將物體加熱到高溫。將零件和
  • 焊接機器人的應用及原理

    焊接機器人用于焊接,更適合制造多品種、小批量的產品,而不是批量生產的產品。此外,它還擅長傳統上手工完成的細致而精確的工作,例如局部焊接和焊接耐熱性較低的部件。然而,它比其他焊接自動化設備需要更多的時間。例如,智能光纖傳感器放大器電路板的焊接采用使用機器人的滑動焊接方法來進行。機器人負責焊盤寬度0.5毫米、間距1毫米的精確位置焊接,提高工作效率。焊錫機器人原理焊接機器人由帶有手臂的機器人、烙鐵、控制器和用于設置條件的示教器組成。有些還配有氮氣發(fā)生器,以防止烙鐵頭和焊料表面氧化。機器人的類型包括小型
  • UV光源結構

    我們經營的UV光源大致分為兩種:使用UV燈的UV燈光源和使用UV-LED的UV-LED光源。UV燈光源結構UV燈光源一般由用于點亮燈的燈電源部分、用于使用橢圓鏡聚焦燈光的鏡單元部分、用于調節(jié)發(fā)射光量的光圈單元部分、快門單元組成控制光發(fā)射的開/關以及將光傳播到目標位置的紫外光導。燈電源部分當燈電源啟動時,首先通過點火器在燈電極之間施加高壓,引起介質擊穿。緊接著,使數倍于點燈時的額定電流的電流在電極間流過短時間,從而在電極間形成電流路徑。之后,通過控制燈電流和功率來保持燈的電氣額定值,使燈穩(wěn)定點亮。
  • 半導體晶圓紫外線(UV)臭氧清洗設備

    半導體晶圓紫外線(UV)臭氧清洗設備波長185納米、254納米目的清潔/修改行業(yè)半導體制造待安裝設備半導體清洗設備UV照射設備用于清洗半導體晶圓。紫外線照射會產生臭氧,去除晶圓表面的有機物。半導體晶圓紫外臭氧清洗設備可用于原型/開發(fā)和批量生產。原型機和開發(fā)機是半自動的,生產能力低,而量產機是自動化機。UV照射設備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當185nm紫外線被氧氣吸收時,產生臭氧(O3)并產生活性氧。這個應用程序用過的解決問題的例子更換晶圓周邊曝光光源,成本降低30%以上目的接觸行業(yè)
  • 什么是紫外線(UV)臭氧清洗設備?

    UV臭氧清洗是通過照射能量比作為污染物的有機化合物的結合能更強的紫外線來分解有機化合物的清洗方法。在大氣(含氧的環(huán)境氣體)中,通過紫外線照射產生臭氧(O3)和激發(fā)態(tài)活性氧(O)。活性氧具有的氧化能力,會立即與未結合的有機化合物發(fā)生氧化反應。這會產生簡單的分子,如CO2、H2O和O2,它們從表面蒸發(fā),同時去除(清潔)有機物質。與使用清洗液的濕式清洗不同,UV臭氧清洗可以減少對環(huán)境的影響,并且不會像使用放電的等離子清洗那樣對工件造成熱量或靜電損壞,具有以下特點。
  • 關于步進機使用的UV照射設備

    步進曝光機是一種使用步進重復方法進行曝光的投影曝光設備。將曝光區(qū)域分成幾個小部分并一次性曝光這些區(qū)域。曝光完成后,移動到下一個區(qū)域并進行另一次曝光。這稱為步進重復方法,因為該區(qū)域被移動(步進)并重復曝光(重復)。UV照射設備一般采用超高壓汞燈作為光源。當在晶片或玻璃基板上形成電路時,通過用紫外線照射圖案化的光掩模,將圖案轉移到涂有抗蝕劑的基材上。曝光所需的光線要求均勻度高、角度控制精確、輸出高。為了滿足這個要求,我們使用短弧燈,它是幾千瓦到幾十千瓦的光源,并通過許多光學元件將橢圓鏡聚焦的強紫外光
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