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SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下（ 100ºC）沉積高質量SiO2, S...

PICOSUN 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Pro；PICOSUN R-200 Advanced ALD系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS...

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200高級版；系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件...

PICOSUN®R-200標準ALD系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件，珠寶，...

離子注入機由離子源、質量分析器、加速器、四級透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據實際需要省去次要部位。離子源是離子注入機的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子...

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下（ 100ºC）沉積高質量SiO2, S...