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PlasmaPro 100 RIE

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更新時間：2022-11-30 12:44:26瀏覽次數(shù)：177評價

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產(chǎn)品簡介

PlasmaPro 100 RIE模式可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝。詢價增加到詢價列表在詢價列表中查看此產(chǎn)品

詳細(xì)介紹

III-V族材料刻蝕工藝
固體激光器 InP刻蝕
VCSEL GaAs/AlGaAs刻蝕
射頻器件低損傷 GaN刻蝕
類金剛石（DLC）沉積
二氧化硅和石英刻蝕
用特殊配置的PlasmaPro FA設(shè)備進(jìn)行失效分析的干法刻蝕解剖工藝，可處理封裝好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圓

RIE of InP waveguide

70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask

Dielectric metal etch

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