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當(dāng)前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺(tái)-圖形發(fā)生>>電子束曝光>> CRESTEC電子束光刻系統(tǒng)
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)CRESTEC
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
更新時(shí)間:2024-09-25 15:27:53瀏覽次數(shù):1465次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)eLINE Plus
Electron Beam Lithography System(EB
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 150萬-200萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
電子束光刻系統(tǒng)特點(diǎn)
1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍
2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)
3.采用場尺寸調(diào)制技術(shù),電子束定位分辨率(address size)可達(dá)0.0012nm
4.采用軸對(duì)稱圖形書寫技術(shù),圖形偏角分辨率可達(dá)0.01mrad
5.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,如微納器件加工,Si/GaAs
電子束光刻系統(tǒng)參數(shù)
1.小線寬:小于10nm(8nm available)
2.加速電壓:1-50kV
3.電子束直徑:小于2nm
4.套刻精度:20nm(mean+2σ)
5.拼接精度:20nm(mean+2σ)
6.加工晶圓尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option)
7.描電鏡分辨率:小于2nm
產(chǎn)品介紹
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。型號(hào)包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小線寬可達(dá)8nm,小束斑直徑2nm,套刻 精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)。
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