高性能電子束曝光機是一款高性能的納米光刻系統，擁有完整200mm尺寸的光刻能力，這款電子束光刻系統代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產品。它提供了不同用途的解決方案，包括納米尺度的電子束直寫和大學研究所，以及商業化的生產力中心研發用的掩膜版制作。

同時，系列產品還包括新的EBPG5150電子束直寫系統，使用了相同的平臺設計，是一款155mm*155mm尺寸平臺的系統。

Improved Specifications：

Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz

Extreme beam current up to 350 nA

Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

高束流密度，熱場發射電子槍可以在20、50和100kV之間切換

200mm的平臺可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版

小曝光特征尺寸小于8nm

高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發生器

在所有KVs加速電壓下，可連續改變的寫場大小，大可以到1mm

GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環境

多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求

模塊化的系統架構：

模塊化的系統架構設計，可以讓用戶根據需要選擇配置，可以在將來技術升級的時候，保護用戶的初始投資，提供不同類型的升級策略。

電子束曝光系統EBPG5200 產品詳情

高性能電子束曝光機主要應用：

100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構

高速電子束直寫

批量生產， 如化合物半導體器件

防偽標識

電子光學柱技術：

EBPG

電子束

100 kV

樣品臺：

覆蓋完整8英寸硅片大小

Z軸垂直高度大范圍可調(可選)

10工位自動上料