RAITH多功能電子束曝光系統eLINE Plus

多功能電子束曝光系統

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統

超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統

納米加工領域的瑞士

多用途的納米光刻系統

eLINE Plus被廣泛用于大學和研究中心，該系統有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求。

除具有專業的電子束光刻及成像功能，eLINE Plus還完美集成了納米操縱設備，如納米探針、用于聚焦電子束誘導過程的氣體注入系統等各種多功能選件，這使得eLINE Plus成為世界上*的、用途廣泛的電子束光刻系統。

納米工程、納米操縱，及聚焦電子束誘導過程

• 先進的熱場發射電子光學柱，可得到的小束斑尺寸
• 開放的可升級的平臺理念
• 廣泛的納米加工工藝
• 多種探測器，可靈活地實現對準標記識別、成像，及材料分析方面的應用
• *的無寫場拼接的直寫模式（traxx /periodixx）
• Raith NanoSuite軟件: 集所有模塊于一體的綜合軟件界面

可擴展的科研工具理念

eLINE Plus具有模塊可擴展的科研工具理念，用戶可任意時間升級各種模塊，使該系統適用于納米研究中熱門的研究方向。eLINE Plus從傳統的電子束應用領域，擴展成為多功能的系統，打開了跨學科研究的大門。

eLINE Plus具有的小束斑尺寸（1.6nm）,在前沿的高分辨納米加工中，不論是納米曝光還是其他聚焦電子束誘導過程中都展現出的優異性能。

eLINE Plus 納米曝光應用

• HSQ膠上制作亞5nm線條

• 高密度器件：1kB交叉型阻變式存儲器

• 通過鉆蝕工藝獲得光子晶體隔膜器件
• 金屬橫向自旋閥

• 納米光柵實現的神經突導航功能

eLINE Plus 納米工程應用

• 采用電子束誘導沉積功能生長金電極，在金電極上沉積懸空的Pt納米線，并采用探針進行納米線探測

• 電子束誘導沉積結構，采用輪廓儀探針進行材料生長速率的測量

• 電子束誘導沉積生長三維納米結構
• 采用能量選擇inLens背散射電子探測器探測材料對比度

eLINE Plus 產品詳情