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EVG光刻機主要應用于半導體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統（MEMS）、硅片凸點、化合物半導體等領域，涵蓋了微納電子領域微米或亞微米級線條器件的圖...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；&#16...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應；光子帶隙...

多用途的納米光刻系統eLINE Plus被廣泛用于大學和研究中心，該系統有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求。除具有專業的電子束光...

PIONEERTM集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEERTwo是一個全新的*的設備，真正意義上實現了電子束曝光和...

通過參與好的端研究項目，通過和其他電子顯微鏡以及顯微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持續不斷的改進產品以使其保持在微納技術創新解決方案領域內的競爭力。本著...

FERA3 XM是一款由計算機全控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場發射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

FERA3 GM是一款由計算機*控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場發射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統 （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

shi jie*個*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源...

EVG500系列鍵合機主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應；光子帶隙...

EVG光刻機主要應用于半導體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統（MEMS）、硅片凸點、化合物半導體等領域，涵蓋了微納電子領域微米或亞微米級線條器件的圖...