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agleT-i是AOI市場上2D檢測速度快的設(shè)備之一，其中囊括了CAMTEK的機(jī)構(gòu)、新的鏡頭、高速的傳輸信道。檢測原理與MVP有點(diǎn)類似，都是通過工業(yè)相機(jī)進(jìn)行圖像...

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BVX-100臺式單用戶吸煙臂/壓力通風(fēng)系統(tǒng)

PTC/PTTC 烙鐵頭 [焊接、拆焊和返修系統(tǒng)] 其他配件

SSC 烙鐵頭[焊接、拆焊和返修系統(tǒng)]SSC-671A 鑿型，（寬×長）SSC-771A 1.0 x 9.1 mm （.04“ x .36“）SSC-...

美國OKI/METCAL電烙鐵MX-500/MX-5200/MX-5000手柄線MX-RM3E

METCAL電烙鐵DFP-CN4/DCP-CN4/DFP-CN5/DCP-CN5/DFP-CN6詳細(xì)介紹

高性能電子束曝光機(jī)是一款高性能的納米光刻系統(tǒng)，擁有完整200mm尺寸的光刻能力，這款電子束光刻系統(tǒng)代表了不斷進(jìn)化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產(chǎn)品。

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟電子束曝光機(jī)EBPG5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計(jì)，

PIONEER Two將專業(yè)電子束曝光設(shè)備和電子成像系統(tǒng)所有的先進(jìn)性能，融合成一套獨(dú)立的成套系統(tǒng)。多功能性、穩(wěn)定性、用戶友好性操作，使PIONEER Two系統(tǒng)...

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)納米加工領(lǐng)域的瑞士

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。先進(jìn)納米科技提供;的電子束納米光刻（EBL）系統(tǒng)，或稱電子束直寫（E...

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供的電子束納米光刻（E...

電子束光刻系統(tǒng)特點(diǎn)1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)3.采用場尺寸調(diào)制技術(shù)，電子束定位分辨率（address size）可達(dá)0....

探針式表面輪廓儀在嚴(yán)格的質(zhì)量保證與控制下獲得300mm性能檢測;可容納多大350mm*350mm的樣品，將Dektak有意的可重復(fù)性和再現(xiàn)性應(yīng)用于大尺寸晶片及面...

Dektak XTL 嚴(yán)格的質(zhì)量保證與控制下獲得300mm性能檢測;可容納多大350mm*350mm的樣品，將Dektak有意的可重復(fù)性和再現(xiàn)性應(yīng)用于大尺寸晶片...

Dektak XTL 嚴(yán)格的質(zhì)量保證與控制下獲得300mm性能檢測;可容納多大350mm*350mm的樣品，將Dektak有意的可重復(fù)性和再現(xiàn)性應(yīng)用于大尺寸晶片...

布魯克探針式表面輪廓儀（又稱“臺階儀"）歷今四十載，積累大量專有技術(shù)。從傳統(tǒng)的二維表面粗糙度和臺階高度測量，到更高級的三維表面成像和薄膜應(yīng)力測試，Dektak臺...

布魯克探針式表面輪廓儀（又稱“臺階儀"）歷今四十載，積累大量專有技術(shù)。從傳統(tǒng)的二維表面粗糙度和臺階高度測量，到更高級的三維表面成像和薄膜應(yīng)力測試，Dektak臺...

ContourGT-K 3D光學(xué)顯微鏡是表面輪廓儀功能和價(jià)值的標(biāo)準(zhǔn)。該系統(tǒng)具有各種2D / 3D測量，高分辨率成像和用戶友好的界面，該系統(tǒng)以緊湊的封裝和緊湊的占...